Analyse élémentaire dans le rapport de marché de la métrologie des semiconducteurs 2025 : Analyse approfondie des tendances technologiques, des dynamiques concurrentielles et des projections de croissance mondiale. Explorez les principaux moteurs, les informations régionales et les opportunités stratégiques qui façonnent l’industrie.

• Résumé Exécutif & Aperçu du Marché
• Principales Tendances Technologiques dans l’Analyse Élémentaire pour la Métrologie des Semiconducteurs
• Paysage Concurrentiel et Acteurs Principaux
• Prévisions de Croissance du Marché 2025–2030 : TCAC, Analyse des Revenus et Volume
• Analyse du Marché Régional : Amérique du Nord, Europe, Asie-Pacifique et Reste du Monde
• Défis, Risques et Barrières à l’Adoption
• Opportunités et Recommandations Stratégiques
• Perspectives Futures : Innovations et Évolution du Marché
• Sources & Références

Résumé Exécutif & Aperçu du Marché

L’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs fait référence à l’ensemble des techniques analytiques utilisées pour identifier et quantifier la composition élémentaire des matériaux et des structures à différentes étapes de la fabrication des dispositifs à semi-conducteurs. À mesure que l’industrie des semiconducteurs progresse vers des nœuds de moins de 5 nm et l’intégration de nouveaux matériaux, la caractérisation élémentaire précise est devenue essentielle pour le contrôle des processus, l’amélioration des rendements et la fiabilité des dispositifs. Des techniques telles que la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), la spectroscopie photoélectronique (XPS), la spectroscopie des électrons Auger (AES) et la fluorescence par rayons X à réflexion totale (TXRF) sont largement utilisées pour détecter des contaminants traces, surveiller les profils de dopage et analyser les films minces et les interfaces.

Le marché mondial de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs est en bonne voie pour une croissance robuste en 2025, stimulé par la complexité croissante des dispositifs à semi-conducteurs, l’adoption de technologies d’emballage avancées et la prolifération de l’intégration hétérogène. Selon Gartner, l’industrie des semiconducteurs devrait dépasser 600 milliards de dollars en revenus en 2025, une part importante étant allouée aux solutions de métrologie et d’inspection. La demande pour des outils d’analyse élémentaire à haute sensibilité et à haut débit est également alimentée par la transition vers la lithographie EUV, les dispositifs NAND 3D et les dispositifs logiques avec empilements de portes haut-k/métal, tous nécessitant un contrôle strict des contaminants et une caractérisation des matériaux.

• Moteurs du Marché : Les principaux moteurs comprennent la miniaturisation des caractéristiques des dispositifs, l’introduction de nouveaux matériaux (tels que SiGe, composés III-V et matériaux 2D) et le besoin de métrologie en temps réel et en ligne pour soutenir les nœuds de processus avancés. L’essor des applications automobiles, AI et IoT augmente également la demande pour des puces de haute fiabilité, soulignant ainsi l’importance de l’analyse élémentaire.
• Paysage Concurrentiel : Les principaux fournisseurs d’équipements tels que Thermo Fisher Scientific, Hitachi High-Tech Corporation, et Oxford Instruments investissent dans la R&D pour améliorer la sensibilité, la rapidité et l’automatisation de leurs plateformes d’analyse élémentaire. Des partenariats stratégiques entre les fournisseurs d’outils et les fonderies de semiconducteurs accélèrent le déploiement de solutions de métrologie de prochaine génération.
• Tendances Régionales : L’Asie-Pacifique reste le plus grand marché, menée par les investissements des fonderies à Taïwan, en Corée du Sud et en Chine. L’Amérique du Nord et l’Europe sont également en croissance, soutenues par des initiatives gouvernementales visant à renforcer la fabrication de semiconducteurs nationale et la résilience de la chaîne d’approvisionnement (SEMI).

En résumé, l’analyse élémentaire est une pierre angulaire de la métrologie des semiconducteurs, soutenant la capacité de l’industrie à innover à l’échelle atomique. Les perspectives du marché pour 2025 sont caractérisées par des avancées technologiques, une augmentation des dépenses en capital, et un accent accru sur la qualité et la fiabilité à travers la chaîne de valeur des semiconducteurs.

Principales Tendances Technologiques dans l’Analyse Élémentaire pour la Métrologie des Semiconducteurs

L’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs est un processus critique qui permet l’identification et la quantification précises des éléments chimiques au sein des matériaux et des dispositifs à semi-conducteurs. À mesure que l’industrie progresse vers des nœuds de moins de 5 nm et l’intégration hétérogène, la demande de techniques d’analyse élémentaire hautement sensibles, précises et non destructives a augmenté. En 2025, plusieurs tendances technologiques clés façonnent le paysage de l’analyse élémentaire pour la métrologie des semiconducteurs, guidées par la nécessité d’un meilleur contrôle des processus, une amélioration des rendements, et l’intégration de nouveaux matériaux.

• Progrès dans les Techniques Basées sur les Rayons X : La spectroscopie photoélectronique (XPS) et la fluorescence par rayons X (XRF) connaissent des améliorations significatives en résolution spatiale et en limites de détection. Les derniers systèmes XRF offrent désormais une résolution sub-micronique, permettant une cartographie détaillée des contaminants traces et des distributions de dopants sur des nœuds avancés. Des entreprises telles que Bruker et Thermo Fisher Scientific sont à l’avant-garde, introduisant des plateformes XRF et XPS automatisées et à haut débit adaptées aux fabs de semiconducteurs.
• Intégration de la Spectrométrie de Masse par Ions Secondaires (SIMS) : La SIMS reste indispensable pour le profilage en profondeur et l’analyse ultra-trace, en particulier pour la détection d’éléments légers et de distributions isotopiques. Les innovations récentes se concentrent sur les sources d’ions en cluster et l’amélioration de la compensation de charge, qui améliorent la résolution en profondeur et minimisent les dommages aux échantillons. CAMECA et AMEC sont des fournisseurs leaders d’outils SIMS de nouvelle génération optimisés pour la caractérisation des dispositifs NAND 3D et logiques.
• Émergence de Méthodes En Ligne et Non Destructives : La pression pour un contrôle des processus en temps réel accélère l’adoption de l’analyse élémentaire en ligne et non destructive. Des techniques telles que la fluorescence par rayons X à réflexion totale (TXRF) et la spectroscopie par décharges laser (LIBS) sont intégrées directement dans les lignes de production, offrant un retour rapide sans compromettre l’intégrité des wafer. HORIBA et Oxford Instruments élargissent leurs portefeuilles pour répondre à ces besoins.
• Analyse de Données et Automatisation Pilotées par l’IA : L’intelligence artificielle et l’apprentissage automatique sont de plus en plus utilisés pour interpréter des données élémentaires complexes, automatiser la classification des défauts et prédire les dérives des processus. Cette tendance est soutenue par des collaborations entre les fournisseurs d’outils de métrologie et les fabricants de semiconducteurs, comme en témoignent les rapports récents de Gartner et SEMI.

Ces tendances technologiques permettent collectivement aux fabricants de semiconducteurs d’atteindre de meilleures performances, fiabilité et rendements des dispositifs, tout en soutenant le rythme rapide de l’innovation dans la fabrication avancée de semiconducteurs.

Paysage Concurrentiel et Acteurs Principaux

Le paysage concurrentiel de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs est caractérisé par un groupe concentré d’acteurs mondiaux, chacun tirant parti des technologies avancées pour répondre aux exigences strictes de l’industrie des semiconducteurs. En 2025, le marché est dominé par une poignée d’entreprises d’instrumentation analytique établies, avec un accent sur l’innovation, la précision, et l’intégration avec les processus de fabrication des semiconducteurs.

Les acteurs clés incluent Thermo Fisher Scientific, Agilent Technologies, Bruker Corporation, Hitachi High-Tech Corporation, et Oxford Instruments. Ces entreprises offrent une gamme de solutions d’analyse élémentaire, telles que la fluorescence par rayons X (XRF), la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), et la spectrométrie de masse à plasma inductif couplé (ICP-MS), adaptées aux applications dans le secteur des semiconducteurs.

Thermo Fisher Scientific maintient une position de leader grâce à son portefeuille complet de systèmes XRF et ICP-MS, qui sont largement adoptés pour le contrôle des contaminations et la surveillance des processus dans les fabs de semiconducteurs. L’accent mis par l’entreprise sur l’automatisation et l’intégration des données s’aligne sur le changement vers une fabrication intelligente et un contrôle des processus en temps réel dans l’industrie.

Agilent Technologies est reconnu pour ses plateformes ICP-MS à haute sensibilité, qui sont critiques pour l’analyse des traces de métaux dans des produits chimiques ultra-purs et des surfaces de wafer. Les collaborations stratégiques d’Agilent avec des fabricants de semiconducteurs et son investissement dans des solutions spécifiques à des applications ont renforcé sa part de marché, particulièrement en Asie-Pacifique, où la production de semiconducteurs est concentrée.

Bruker Corporation et Oxford Instruments se distinguent par leurs avancées dans les techniques sensibles aux surfaces, telles que la SIMS à temps de vol et la cartographie élémentaire par microscopie électronique. Ces technologies sont essentielles pour l’analyse des pannes, le profilage des dopants et la caractérisation des films minces, soutenant la tendance vers des nœuds plus petits et des architectures complexes.

Hitachi High-Tech Corporation tire parti de son expertise en microscopie électronique et en analyse par rayons X pour fournir des solutions de métrologie intégrées, souvent regroupées avec des équipements de traitement pour un contrôle en ligne. La forte présence de l’entreprise au Japon et ses partenariats avec des fonderies de premier plan ont renforcé sa position concurrentielle.

L’environnement concurrentiel est également façonné par des investissements continus en R&D, des acquisitions stratégiques et des partenariats avec des fabricants d’équipements pour semiconducteurs. À mesure que les géométries des dispositifs se réduisent et que la complexité des matériaux augmente, la demande pour des outils d’analyse élémentaire à haut débit, non destructifs et très sensibles devrait s’intensifier, entraînant ainsi une innovation et une concurrence accrue parmi les principaux acteurs.

Prévisions de Croissance du Marché 2025–2030 : TCAC, Analyse des Revenus et Volume

Le marché de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs est en bonne voie pour une croissance robuste entre 2025 et 2030, stimulée par la complexité croissante des dispositifs à semi-conducteurs et la demande pour un contrôle des processus avancé. Selon les projections de MarketsandMarkets, le marché mondial de la métrologie des semiconducteurs—qui inclut des solutions d’analyse élémentaire—devrait atteindre un taux de croissance annuel composé (TCAC) d’environ 6,5 % au cours de cette période. Cette croissance est soutenue par la transition vers des nœuds de processus de moins de 5 nm, où la caractérisation élémentaire précise devient critique pour l’optimisation du rendement et la réduction des défauts.

Les revenus provenant des outils d’analyse élémentaire, tels que la spectroscopie photoélectronique (XPS), la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), et la spectroscopie de rayons X dispersés par énergie (EDX), devraient augmenter parallèlement à l’expansion globale du marché de la métrologie. Global Information, Inc. estime que le segment des équipements de métrologie dépassera 10 milliards de dollars de revenus annuels d’ici 2030, avec une part significative provenant de l’analyse élémentaire en raison de son rôle essentiel dans la fabrication à nœuds avancés et l’innovation des matériaux.

L’analyse des volumes indique une augmentation régulière du déploiement des systèmes d’analyse élémentaire tant dans les installations de fabrication de semiconducteurs en amont qu’en aval. La région Asie-Pacifique, menée par des investissements de fonderies majeures telles que TSMC et Samsung Electronics, devrait représenter la plus grande part des nouvelles installations. Cette croissance régionale est également soutenue par des initiatives gouvernementales visant à localiser les chaînes d’approvisionnement en semiconducteurs et à améliorer les capacités de fabrication locales, comme le rapportent SEMI.

• TCAC (2025–2030) : ~6,5 % pour l’ensemble du marché de la métrologie des semiconducteurs, avec l’analyse élémentaire dépassant la moyenne en raison de sa criticité dans les nœuds avancés.
• Revenus : Prévision de dépasser 10 milliards de dollars pour les équipements de métrologie d’ici 2030, avec l’analyse élémentaire représentant une part croissante.
• Volume : Augmentation significative des expéditions de systèmes, particulièrement en Asie-Pacifique, propulsée par les expansions de capacité et les mises à niveau technologiques.

En résumé, le segment de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs est prêt pour une croissance accélérée jusqu’en 2030, alimenté par les avancées technologiques, les investissements régionaux et l’impératif de contrôle des processus à l’échelle atomique dans la fabrication de semiconducteurs de nouvelle génération.

Analyse du Marché Régional : Amérique du Nord, Europe, Asie-Pacifique et Reste du Monde

Le marché mondial de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs connaît une dynamique de croissance, avec des tendances régionales façonnées par les avancées technologiques, les initiatives gouvernementales et l’évolution de la chaîne d’approvisionnement en semiconducteurs. En 2025, l’Amérique du Nord, l’Europe, l’Asie-Pacifique et le Reste du Monde (RoW) présentent chacun des caractéristiques de marché distinctes et des moteurs de croissance.

Amérique du Nord reste un leader dans l’innovation des semiconducteurs, grâce à des investissements robustes en R&D et à la présence de principaux fabricants de puces et fournisseurs d’équipements. Les États-Unis, en particulier, bénéficient d’incitations gouvernementales telles que la loi CHIPS, qui accélère la fabrication de semiconducteurs nationale et, par extension, la demande d’outils d’analyse élémentaire avancés. L’accent mis par la région sur les nœuds de nouvelle génération (5 nm et moins) et les semiconducteurs composés favorise l’adoption de solutions de métrologie à haute sensibilité, y compris la fluorescence par rayons X (XRF) et la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS) Association de l’Industrie des Semiconducteurs.

Europe est caractérisée par un fort accent sur les électroniques automobiles et industrielles, avec des pays comme l’Allemagne, la France et les Pays-Bas investissant dans la R&D et la fabrication de semiconducteurs. La loi Chips de l’Union Européenne et le financement associé soutiennent l’expansion des fabs locales et des centres de recherche, augmentant le besoin d’analyse élémentaire précise pour garantir la qualité et la conformité aux normes strictes de l’UE. Les fabricants d’équipements européens sont également à l’avant-garde du développement d’outils de métrologie adaptés à l’emballage avancé et à l’intégration hétérogène European Semiconductor.

Asie-Pacifique domine le paysage mondial de la fabrication de semiconducteurs, représentant la plus grande part de la fabrication de wafers et de l’emballage. Des pays comme Taïwan, la Corée du Sud, la Chine et le Japon abritent des fonderies et des fournisseurs OSAT (Outsourced Semiconductor Assembly and Test) de premier plan. Les expansions rapides de capacité de la région, notamment dans les logiques avancées et la mémoire, entraînent des investissements significatifs dans les technologies d’analyse élémentaire pour soutenir le contrôle des processus, l’amélioration des rendements et la surveillance des contaminations. Les gouvernements locaux incitent également à l’adoption de solutions de métrologie de pointe pour maintenir la compétitivité mondiale SEMI.

Reste du Monde (RoW), y compris Israël, Singapour et les économies émergentes, participent de plus en plus à la chaîne de valeur des semiconducteurs. Ces régions investissent dans des fabs spécialisées et des centres de R&D, souvent concentrés sur des applications de niche telles que l’électronique de puissance et les capteurs. En conséquence, la demande pour des solutions d’analyse élémentaire augmente, en particulier pour l’assurance qualité et la conformité réglementaire IC Insights.

Défis, Risques et Barrières à l’Adoption

L’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs fait face à une gamme de défis, de risques et de barrières à l’adoption alors que l’industrie progresse vers des nœuds de moins de 5 nm et l’intégration hétérogène. Un des principaux défis techniques est d’atteindre la sensibilité et la résolution spatiale requises pour détecter des éléments traces et des contaminants à l’échelle atomique. Des techniques telles que la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), la spectroscopie photoélectronique (XPS) et la SIMS à temps de vol (ToF-SIMS) doivent continuer à évoluer pour répondre aux exigences strictes des dispositifs de prochaine génération, où même une seule couche atomique de contamination peut affecter les performances et le rendement des dispositifs. Cependant, ces techniques avancées impliquent souvent une préparation complexe des échantillons, des coûts opérationnels élevés et nécessitent un personnel hautement qualifié, ce qui peut limiter leur adoption à grande échelle, surtout parmi les petites fonderies et fabs.

Une autre barrière significative est l’intégration des outils d’analyse élémentaire dans les environnements de fabrication de semiconducteurs à haut débit. De nombreuses méthodes d’analyse élémentaire sont intrinsèquement lentes et destructrices, les rendant moins adaptées au contrôle des processus en ligne. Le besoin de solutions non destructives, rapides et automatisées stimule la recherche, mais les solutions commerciales qui équilibrent rapidité, précision et coût restent limitées. Cela crée un risque de goulots d’étranglement des processus et d’augmentation des temps de cycle, en particulier à mesure que les architectures des dispositifs deviennent plus complexes et multicouches.

La gestion et l’interprétation des données présentent également des risques substantiels. Les vastes ensembles de données générés par l’analyse élémentaire avancée nécessitent des outils robustes d’analytique de données et d’apprentissage automatique pour une interprétation significative. Une gestion de données inadéquate peut conduire à des erreurs d’interprétation, des dérives de processus ou des détections de défauts manquées, affectant finalement le rendement et la fiabilité. De plus, le manque de protocoles standardisés et de calibrations croisées des outils complique la comparaison des données entre différentes fabs et ensembles d’outils, entravant la mise en benchmark et le partage des meilleures pratiques à l’échelle de l’industrie.

D’un point de vue réglementaire et de la chaîne d’approvisionnement, le contrôle accru sur la pureté des matériaux et la traçabilité—dirigé par les exigences des clients et les réglementations gouvernementales—ajoute une couche de complexité supplémentaire. Garantir la conformité avec les normes évolutives, telles que celles établies par le SEMI et la Commission Électrotechnique Internationale (IEC), exige des investissements continus dans l’infrastructure de métrologie et la formation du personnel.

• Coûts élevés en capital et en opérations pour des outils de métrologie avancés (Technavio).
• Pénurie d’ingénieurs en métrologie qualifiés (SEMI).
• Défis dans la mise à l’échelle de l’analyse élémentaire pour la fabrication à haut volume (MarketsandMarkets).

En résumé, bien que l’analyse élémentaire soit indispensable pour la fabrication avancée de semiconducteurs, surmonter ces barrières techniques, opérationnelles et réglementaires sera critique pour une adoption plus large et pour soutenir la feuille de route de l’industrie au-delà de 2025.

Opportunités et Recommandations Stratégiques

Le paysage de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs évolue rapidement, présentant des opportunités significatives tant pour les acteurs établis que pour les nouveaux entrants en 2025. À mesure que les géométries des dispositifs se réduisent et que la complexité des matériaux augmente, la demande pour des outils d’analyse élémentaire précis, à haut débit et non destructifs s’intensifie. Cela est particulièrement évident dans la fabrication de logiques avancées et de mémoire, où le contrôle à l’échelle atomique des dopants et des contaminants est crucial pour le rendement et la performance.

Des opportunités clés émergent dans l’intégration de techniques avancées telles que la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), la spectroscopie photoélectronique (XPS) et la SIMS à temps de vol (ToF-SIMS) avec des systèmes de métrologie en ligne. Ces méthodes permettent un suivi des processus en temps réel et un retour rapide, qui sont essentiels pour des environnements de fabrication à haut volume. Les entreprises capables d’offrir des solutions hybrides—combinant rapidité, sensibilité et préparation minimale des échantillons—sont bien positionnées pour capturer des parts de marché à mesure que les fabs cherchent à minimiser les temps d’arrêt et à maximiser le débit.

Une autre opportunité stratégique réside dans le développement de plateformes d’analytique de données pilotées par l’IA qui peuvent interpréter des données élémentaires complexes et fournir des informations exploitables pour l’optimisation des processus. À mesure que le volume des données de métrologie augmente, les fabricants de semiconducteurs recherchent de plus en plus des solutions capables d’automatiser la classification des défauts et l’analyse des causes profondes. Les partenariats entre les fournisseurs d’outils de métrologie et les entreprises d’analytique des données devraient s’accélérer, comme le montrent les collaborations récentes mises en avant par KLA Corporation et Applied Materials.

La durabilité et la réduction des coûts propulsent également l’innovation. Il existe un marché en croissance pour des outils d’analyse élémentaire qui réduisent l’utilisation de produits chimiques, la consommation d’énergie et les déchets. Les entreprises investissant dans des solutions de métrologie vertes peuvent se différencier, en particulier alors que les pressions réglementaires augmentent dans des marchés clés comme l’UE et l’Asie de l’Est (SEMI).

Les recommandations stratégiques pour les parties prenantes incluent :

• Investir dans la R&D pour des systèmes d’analyse élémentaire hybrides et en ligne adaptés aux nœuds de nouvelle génération (3 nm et moins).
• Forger des alliances avec des fournisseurs d’IA et d’analytique des données pour améliorer la proposition de valeur des plateformes de métrologie.
• Étendre les offres de services pour inclure la maintenance prédictive et l’optimisation des processus basées sur les données d’analyse élémentaire.
• Prioriser la durabilité dans la conception des outils pour s’aligner sur les attentes des clients et des réglementations.

En capitalisant sur ces opportunités, les entreprises peuvent garantir un avantage concurrentiel sur le marché en rapide croissance de la métrologie des semiconducteurs en 2025 et au-delà.

Perspectives Futures : Innovations et Évolution du Marché

Les perspectives futures pour l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs sont façonnées par une innovation technologique rapide et les demandes évolutives de la fabrication avancée de semiconducteurs. À mesure que les géométries des dispositifs se réduisent en dessous de 5 nm et que de nouveaux matériaux sont intégrés dans les architectures des puces, le besoin d’outils d’analyse élémentaire hautement sensibles, non destructifs et à haut débit s’intensifie. En 2025, plusieurs tendances et innovations clés devraient conduire l’évolution du marché.

Un domaine majeur d’innovation est l’intégration des algorithmes d’intelligence artificielle (IA) et d’apprentissage automatique (ML) dans les plateformes d’analyse élémentaire. Ces technologies permettent une interprétation plus rapide des données, une amélioration de la détection des défauts et une maintenance prédictive, renforçant ainsi le contrôle des processus et le rendement. Des entreprises telles que Thermo Fisher Scientific et Bruker Corporation investissent dans des logiciels pilotés par l’IA pour automatiser des analyses complexes et réduire la dépendance des opérateurs.

Un autre développement significatif est l’avancement des solutions de métrologie hybrides, qui combinent plusieurs techniques analytiques—telles que la spectroscopie photoélectronique (XPS), la spectrométrie de masse par ions secondaires (SIMS), et la spectroscopie de rayons X dispersés par énergie (EDX)—au sein d’une seule plateforme. Cette approche fournit des informations élémentaires et chimiques complètes, cruciales pour des étapes de processus telles que le dépôt en couches atomiques (ALD) et la lithographie ultraviolette extrême (EUV). Oxford Instruments et JEOL Ltd. sont à la pointe du développement de ces systèmes intégrés.

Le marché observe également une poussée vers l’analyse élémentaire en ligne et en temps réel, permettant un retour immédiat lors du traitement des wafers. Ce changement est motivé par le besoin de minimiser les temps d’arrêt et d’améliorer le débit dans des environnements de fabrication à haut volume. Selon SEMI, l’adoption d’outils de métrologie en ligne devrait s’accélérer, en particulier dans les fabs de logiques avancées et de mémoire.

En regardant vers l’avenir, le marché de l’analyse élémentaire dans la métrologie des semiconducteurs devrait croître à un TCAC de plus de 7 % jusqu’en 2025, alimenté par la prolifération de l’IA, de la 5G et des électroniques automobiles. La demande pour une caractérisation précise des matériaux continuera d’augmenter à mesure que les fabricants repoussent les limites de la loi de Moore et explorent de nouvelles architectures de dispositifs telles que les FET à porte tout autour (GAA) et la NAND 3D. Les partenariats stratégiques entre fabricants d’outils et fonderies de semiconducteurs devraient se renforcer, favorisant encore plus l’innovation et la personnalisation des solutions de métrologie pour répondre aux exigences de prochaine génération MarketsandMarkets.

Sources & Références

• Thermo Fisher Scientific
• Hitachi High-Tech Corporation
• Oxford Instruments
• Bruker
• CAMECA
• AMEC
• HORIBA
• Oxford Instruments
• Global Information, Inc.
• Association de l’Industrie des Semiconducteurs
• IC Insights
• Technavio
• KLA Corporation
• JEOL Ltd.